北方华创和中微半导体都是半导体设备领域的重要企业，但核心技术和产品各有特色。

核心技术对比

北方华创研发投入领先，2022 - 2023年分别投入36亿、44亿，突破PVD、CVD和ALD等多项核心技术，实现硅、金属介质刻蚀工艺全覆盖。还成功研发出高密度等离子体化学气相沉积等高端设备 老张投研 20250126全球半导体观察 20250115。中微公司在刻蚀机技术上表现突出，特别是高深宽比刻蚀和LPCVD产品持续获得客户验证和订单，在薄膜层级进展较快 。

产品对比

北方华创是平台型企业，产品涵盖刻蚀设备、薄膜沉积设备、立式炉等，应用于集成电路、光伏等多领域，刻蚀机、薄膜沉积设备国内市占率均为11%左右，稳居国产第一。不过其收入受光伏设备订单影响 老张投研 20250126。中微公司以刻蚀机为主要产品，2024年刻蚀机销售较好，全年收入90亿。另外MOCVD设备曾因终端市场下降收入减少 半导体行业观察 20241121。

总体而言，北方华创产品多元化，技术覆盖广；中微公司在刻蚀机领域优势明显，未来业绩增长可能更稳定 。

在研发投入上，中微公司2024年研发投入约24.50亿元，较上一年增长约11.88亿元，此前数据暂缺。产品技术指标和性能优势方面，北方华创多款新产品如CCP刻蚀设备等进入客户生产线批量销售；中微公司刻蚀设备销售同比增约54.71%，LPCVD薄膜设备累计出货超100个反应台，EPI设备进入客户端量产验证。

北方华创和中微半导体在光刻机领域均无突出表现。目前光刻机市场主要由ASML、佳能、尼康垄断，2022年，ASML市场份额占比82.1%，Canon市场份额占比10.2%，Nikon市场份额占比7.7% 。

北方华创是平台型企业，主营半导体装备、真空及锂电装备和精密电子元器件三大业务，产品包括刻蚀机、PVD、CVD等多款高端半导体工艺装备，但未涉及光刻机领域 年庆功 20241023。

中微公司是国产刻蚀设备龙头，CCP设备和ICP设备应用覆盖度分别达到94%和95%，同时布局薄膜沉积等其他设备，也未在光刻机领域有相关产品和技术 王海维 20240924。

国内光刻机领域，上海微电子负责整机的设计和组装，光源、照明及曝光系统等由各个高校和科研院所牵头研发，在产业化进程中孵化出了国科精密、镭望光学等公司 方正证券研究 20250113。

“两者”指北方华创和中微半导体，它们在光刻机领域均无突出产品和技术。在刻蚀设备方面，二者最先进水平达7/14纳米，基本追平国际主流。但在光刻机市场，主要由ASML、佳能、尼康垄断，2022年，ASML市占率82.1%。国内上海微电子最先进制程为65纳米，北方华创和中微半导体未涉足该领域，不存在技术产品对比优势。